MICRO
Tehnologii avansate privind posibilitati de realizare a elementelor submicronice prin metode litografice.
Contract nr. 86/2005 CEEX-Program RELANSIN
15.12.2005-30.08.2008
Parteneri:
SC Optoelectronica-2001 SA,
UPB-CMMIP,
INCDFLPR,
CEFIN
Obiective:
activitati de cercetare si dezvoltare tehnologica de mare complexitate, cercetari in vederea posibilitatilor realizarii pe viitor a unor elemente pasive cu dimensiuni submicronice prin metode de litografie, sa dezvolte baza tehnologica existenta pentru a putea dezvolta metode tehnologice avansate de verificare a parametrilor elementelor obtinute.
De asemenea:
cercetari complexe, multidisciplinare pentru dezvoltarea tehnologiilor de realizare a elementelor submicronice, astfel incat sa devina majora perspectiva includerii capacitatii de cercetare a membrilor consortiului in aria europeana de cercetare(ERA);
integrarea, cresterea calitatii si a nivelului de performanta al activitatilor de cercetare legate de tehnici si tehnologii nanolitografice desfasurate in cadrul consortiului si in afara lui;
dezvoltarea parteneriatului de lunga durata intre institutiile participante;
activitati de cercetare si dezvoltare tehnologica de mare complexitate privind utilizarea rationala si eficienta pe baze stiintifice a potentialului de aparatura, de cercetare, de productie .
Aspecte inovative/metodologie de cercetare:
In acest proiect, se va pune accentul pe cercetarea posibilitatilor de realizare a elementelor submicronice prin metode litografice si in special crearea unor posibilitati de experimentare a litografiei laser, realizare si testare a parametrilor proceselor clasice de litografie.
Prin extinderea gamei de masuratori se urmareste
efectuarea unor incercari complexe care includ metode mai evoluate si o dotare moderna
solutii tehnologice pentru realizarea elementelor submicronice;
proiectarea configuratie mostre;
experimentarea si efectuare de masuratori cu mostre realizate;
Rezultate:
Efectele aplicarii rezultatelor estimate se pot valorifica prin realizarea de noi tehnologii si servicii noi, care inca nu au fost asimilate de industria nationala; performantele si pretul acestor tehnologii si servicii vor putea concura cu succes cu cele existente azi pe piata internationala. Se va crea o piata de noi servicii bazate pe tehnologii moderne.
In derularea proiectului ne propunem a realiza urmatoarele obiective masurabile:
tehnologiile avansate de laborator in vederea posibilitatilor de realizare a elementelor submicronice prin metode litografice, de asemenea un obiectiv masurabil important va fi crearea parteneriatului de cercetare si dezvoltare in domeniul nanotehnologiilor ; va fi pusa baza unei platforme tehnologice in domeniu de procedee avansate si a masuratorilor respective .
Pe tot parcursul derularii proiectului ne propunem de asemenea :
elaborarea a minim 2 proceduri tehnologice;
elaborarea a cel putin 2 articole ;
scolarizarea a minim 2 salariati pentru lucrul cu tehnologiile ce se vor elabora
Article publicate:
1. Valentina LAZARESCU, Gianina DOBRESCU, Mihail F.LAZARESCU, Constantin LOGOFATU, Bogdan SAVU andGeorge A. STANCIU, Fractal analysis of the AFM imagesof sulfide-covered GaAs(00) surfaces, Scanning 28,2006
2. D. Mohanta, G.A. Ahmed, A. Choudhury, F. Singh,D.K. Avasthi, G. Boyer and G.A. Stanciu, Scanningprobe microscopy, luminescence and third harmonicgeneration studies of elongated CdS:Mn nanostructuresdeveloped by energetic oxygen-ion-impact, Eur. Phys.J. Appl. Phys. 35, 29-36 (2006)
